半导体 离线式等离子清洗机NE-PE65F
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产品简介

NE-PE65F是一款半导体行业专用的真空等离子清洗机,作为一种精密干法清洗设备,适用于混合集成电路、单片集成电路管壳和陶瓷基板的清洗;可应用于半导体、厚膜电路、元器件封装前、硅片刻蚀后、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,可去除金属表面的油脂、油污等有机物及氧化层。还可应用于塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。

设备采用镜面不锈钢钣金,具有优异的耐腐蚀性和洁净度,电极绝缘部分采用陶瓷电极板托条,有效避免腔体内氟元素污染,设备满足半导体行业高洁净度的要求,杂质的去除会大大提升产品质量,实现工艺性能的大幅增强,提高良品率及产品可靠性。

设备应用:1、引线键合(Wire-bond)前的等离子清洗;2、塑封(Molding)前的等离子清洗;3、底部填充(Under-fill)前的等离子清洗;4、光刻胶的去除(Descum);5、表面粗化与刻蚀,使材料易于结合;

产品参数

型号NE-PE65F
等离子发生器频率13.56MHz
功率500W
腔体材质316 不锈钢/航空铝材
真空泵干泵
钣金镜面不锈钢
电极绝缘陶瓷
腔体容积66L
腔体尺寸400(W)*450(D)*370(H)mm
单层有效处理空间297(W)mm x 364(D)mm
电极板层数6层(可定制)
气体流量控制器

质量流量计0-500SCCM

工艺气体通道2路(可增加)
外形尺寸905mm(L)×1030mm(W) ×1735 mm(H)
电源供应AC380V,50/60Hz,三相五线100A


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