氧气等离子清洗有机物原理-Plasma 氧气（O2）等离子清洗原理是利用化学作用的清洗，是利用产生的氧离子与附着在工件上的有机污染物发生氧化反应，生成二氧化碳气体（CO2）和水气体（H2O）被设备的真空泵排出，达到清洗工件的目的。

Apr. 22, 2024

等离子清洗、激光清洗、紫外线/臭氧清洁对比 激光清洗、紫外线/臭氧清洁和等离子清洗各有其独特的优势和应用场景。在选择合适的清洗技术时，需要根据具体的清洗需求、工件特性以及成本考虑等因素进行综合评估。

Apr. 22, 2024

PCBA三防涂覆前的等离子表面活化处理 等离子表面处理可以改变高分子材料的表面性能和改变材料的表面粗糙度。这种处理可以显著提高难粘材料上三防涂层的附着力，使涂层更加均匀地附着在材料表面。

Apr. 22, 2024

等离子清洗是什么原理？ 等离子清洗的原理就是利用了等离子体中的各种物质的特性，与附着在物体的表面物质分子发生物理或化学反应从而起到了活化作用，将依附在物体表面的物质、污垢进行清理去除，起到清洗物体表面的效果。

Apr. 19, 2024

等离子体刻蚀清洗石墨舟上沉积的镀层 等离子刻蚀清洗主要通过等离子体清洗系统产生的等离子体轰击石墨舟表面膜层，并配合等离子体气体基团在石墨片表面吸附，并与表面膜层产生化学反应(CVD)，最终实现清除石墨舟上沉积的薄膜。

Apr. 19, 2024

等离子清洗技术在集成电路键合工艺中的应用 集成电路制造过程中，采用等离子清洗可有效清除键合区的光致抗蚀剂、溶剂的残余物、环氧溢出物或其它一些有机污染物，因此在键合前进行等离子清洗处理可大大减少键合的失效率，从而提高产品的可靠性。

Apr. 18, 2024