产品简介
NE-MW05是一款结构紧凑、高性能的小型桌面式微波等离子清洗机,专为研发和小规模生产应用而设计,设备使用最新的性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制,主要用于半导体、光学、电子、生物芯片等领域对各种材料表面进行微观清洁、活化、改性、去氧化、去胶等应用。
NE-MW05依靠微波等离子体技术,微波等离子体具有高电离度和离解度能产生更多的活性粒子,‚从而提高清洗速率,同时微波等离子清洗机本身没有内部电极从而消除了电极在放电区域存在而带来的电极材料污染,有利于高纯化学反应和延长使用寿命适应于作高纯度物质的制备和处理。并且整个放电过程不需要正负电极,产生的自偏压极小,等离子体中离子能量低,最大程度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中,从根本上避免了产品表面损伤,因此微波等离子清洗技术非常适合于在半导体芯片封装中应用。
产品参数
型号 | NE-MW05 |
等离子发生器频率 | 2.45GHz |
微波功率 | 1000W |
腔体材质 | 石英玻璃 |
腔体容积 | 5L |
腔体尺寸(圆形) | Φ160×260(D)mm |
有效处理范围 | 145(W)*260(D)mm |
气体流量控制器 | 0-500scm |
气体通道 | 2路(氧气、氩气等) |
外形尺寸 | 730mm(L)×584mm(W) ×382 mm(H) |
电源 | 220V |
产品应用
去除光刻胶
晶圆打底胶
刻蚀钝化层
亲疏水改性
去除氧化物
表面清洁和活化
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