OLED设备ITO玻璃镀膜前等离子清洗

OLED经过更新迭代,目前的生产主要采用的多层OLED器件主要由五部分组成如图1所示，即:阴极、阳极、电子传输层(Electron Transport Layer,ETL)、空穴传输层(Hole Transport Layer,HTL)、有机发光层(Emitting Layer,EL)。这种多层的器件结构其灵活性明显优于单层和双层器件。

图1 OLED 器件结构示意图

OLED器件的阳极材料通常是选取功函数较高的材料,如:氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)。ITO的主要作用是传递电流以激发有机发光材料,从而产生光亮。这种材料的独特性质允许OLED显示屏比传统液晶显示屏(LCD)更薄、更轻便,提供更高的灵活性,这对于可弯曲或可折叠的显示设备尤为重要。

一般而言,OLED制备过程主要包括基片清洗、等离子处理、成膜和封装过程,如图2所示。

图2 OLED制备过程

平整而均一的薄膜是实现OLED器件高发光效率和长使用寿命的前提,但通常小分子材料成膜性较差,容易在成膜后去除溶剂的过程中形成不连续的薄膜。为了改善小分子材料的成膜性，改变镀膜基底的表面性质,是实现更好的成膜手段之一。

ITO镀膜玻璃基板的等离子清洗

在玻璃基板镀膜前需要对其表面进行清洗,如果玻璃表面带有污染物,其表面自由能变小,从而导致蒸镀在上面的空穴传输层发生聚集,导致成膜不均。

等离子体清洗是通过电源激发等离子体轰击基材表面,在轰击的过程利用物理冲击可以去除吸附在基材表面的微颗粒,同时可能造成基材表面的微刻蚀;因此可以用于基材的超精密清洗。等离子体在轰击基材表面的污染物时,还可以与污染物进行反应,形成容易挥发的物质,利用真空抽走,对基材表面的有机物残留具有较好的去除作用。等离子体清洗的最大特点是:大部分处理对象的基材类型,均可以进行处理。

对ITO镀膜玻璃基板进行等离子清洗可以在表面引入极性羟基（-OH）基团，以改善润湿性，使得ITO表面与有机层更加兼容，从而显著提高OLED的性能和寿命。

经过氧等离子体清洗理的ITO会在表面富集一层带负电的氧,由此形成界面偶极层,随着氧的增加,ITO的功函数也会被提高。这极大地提高了空穴注入,赋予OLED器件更低的启亮电压和更高的亮度及发光效率。

作为一项固有优势，等离子清洗可以有效去除ITO表面的纳米级污染物，确保ITO电极和有机层之间的界面清洁，从而减少器件性能下降并延长器件的使用寿命。

ITO玻璃等离子清洗前后对比

将 ITO玻璃基板暴露在等离子体中清洗1 分钟。水滴与表面的角度减小表明，等离子处理显著提高了ITO样品的润湿性。

综上所述，等离子清洗ITO玻璃表面,不仅可以提高ITO的功函数,而且可以提高ITO表面的清洁度和浸润性，亲水性的增加,更利于亲水的有机活性层在其表面成膜