等离子体表面清洗是指通过等离子体与材料表面的油脂、氧化物等产生一系列物理、化学作用，从而挥发和清除污染物，但材料的整体结构和性能保持原状不受影响。

等离子体表面清洗技术起源于20世纪初，已运用于各种电子元器件的制造过程中，促进了现代电子通讯业的发展。物质通常以肉眼可见的固态、液态、气态三种形态存在，但在一些特殊情况下，还存在着不同于常见的固液气三态的物质：（1）高速运动着的电子；（2）处于激发过程中的中性原子、分子、原子团(自由基)；（3）离子化的原子、分子；（4）分子解离反应过程中生成的紫外线；（5）未反应的分子、原子等。这些物质虽然存在的状态比较复杂，但总体上仍然处于电中性状态，这些特殊的物质形态，就称为等离子体状态，又称为物质的第四态。在地球大气中的电离层和太阳表面存在有等离子体，用人工方法也可获得等离子体，如将处于低气压状态的氧气、氮气、水蒸汽等气体分子置于高频电场中，产生辉光放电，其中高速运动的原子、分子、电子和带有正负电荷的原子及分子互相碰撞，结果又激发出电子，而本身又处于激发状态或离子状态，此时的状态就是人工制造的等离子体状态。简单地说，等离子体就是一团由正离子、电子、自由基和中性气体原子所组成的会发光的气体团。

等离子体表面清洗技术原理：

等离子体清洗时与材料表面发生两种主要的反应，一是利用自由基与表面做化学反应，在压力比较高时，对自由基的产生有利，此时化学反应起主导作用；二是利用离子与表面做物理反应，即进行纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着的原子打掉，离子的能量越高，撞击效果越好，在压力较低的情况下，物理撞击将是主要的。

此外，等离子体中自由基的存在对于清洁效果起着非常重要的作用，因为它们可以与物体表面发生化学链式反应，产生新的自由基或进一步降解，可能降解成小的挥发性颗粒清除污染物。而且紫外线具有强大的光能和穿透能力，可以穿透材料表面几微米的深度，产生新的自由基，从而使附着在表面的材料分子键溶解的效果。

等离子体表面清洗技术作为一种清洁的干式工艺，不需要液体化学材料，省去了很多繁琐的操作及后续处理，运行费用低，清洗后不必再对被处理材料进行干燥处理，整个过程几分钟就可完成，其最大的特点就是对待处理的材料没有特殊要求，在清洗处理的同时还能改善材料本身的表面特性。