狭缝涂布法在制备高精度薄膜方面得到了较为广泛的应用。狭缝涂布法是一种精密的涂布技术，工作原理为涂布液在受到压力的情况下沿着涂布机模头的缝隙喷出涂覆在基材表面。与其他涂布方式相比较，它有许多优点，例如可以以较快的速度进行涂布，涂布精度较高、涂出的湿膜膜厚较为均匀等。在进行狭缝涂布过程中系统封闭，可以阻止污染源的进入，涂布液利用率较高，并且能够保持涂布液性质的稳定。通过控制速率，精密计量等方法来实现精准涂布。它是半导体显示光学薄膜应用中更具前景的涂布方法。

狭缝涂布示意图

在进行狭缝涂布前，为保证光学薄膜的质量，需要对基材进行预处理来保证基材表面的洁净度，传统的清洗方法主要分为干法清洗和湿法清洗两种类型。湿法清洗是通过使用某种溶液实现对基材的清洗过程，一般包括蒸汽清洗、溶液浸泡和旋转喷淋等方式。然而这些方式都会有引入新杂质的风险，并且还要针对废液做特定处理，为避免对环境造成污染，所以一般不采用湿法清洗。干法清洗由于控制精准不会造成二次污染近些年已经被广泛的应用于工业领域。干法清洗中发展较为迅速的是等离子清洗。

等离子清洗是通过电源电离气体产生等离子体，等离子体具有较大的能量，将其作用于基材表面可以去除基材表面的污渍，提高基材表面的活性。并且处理后的基材，其表面附着能力也会变得更强，这是因为等离子清洗后的基材表面可以赋予其羟基，由于羟基是亲水性基团，因此可以使浆料更好的涂覆在基材表面。。

光学薄膜狭缝涂布前，用等离子体清洗机清洗成膜的基底表面污渍，防止薄膜因为基底不干净的原因导致薄膜与基底粘附力差；目的是去除基底表面的一些脏污和杂质及提高基底表面的活化性能，从而提高浆料在基底上成膜的均匀性、粘附性。