等离子体又称物质的第四态，它是一种整体呈电中性的电离体。等离子气体的生成必须具有以下几个条件：具有一定的真空度；在保持一定真空度下通入所选气体；开启射频电源，向真空器内电极施加高压电场，使气体在两电极之间电离，放出辉光，形成等离子体。

在印制电路板中等离子清洗过程主要分为三个阶段。第一阶段为产生的含自由基、电子、分子等离子体，形成的气相物质被吸附在钻污固体表面的过程；第二阶段为被吸附的基团与钻污固体表面分子反应生成分子产物以及随后所生成的分子产物解析形成气相的反应过程；第三阶段为与等离子体反应后的反应残余物的脱离过程。

电路板等离子清洗的应用

等离子孔清洗

等离子进行孔清洗是在印制电路板中的首要应用，通常采用氧气和四氟化碳的混合气体作为气源，通过等离子清洗工艺将孔内由于机械钻孔残留的胶渣除去，改善孔壁形貌以提高与镀铜层的结合力。

等离子表面活化

聚四氟乙烯材料主要应用于微波板中，一般FR-4多层板孔金属化过程是无法实用的，其主要原因在于在化学沉铜前的活化过程。目前湿制程处理方式为利用一种萘钠络合物处理液使孔内的聚四氟乙烯表层原子受到浸蚀达到润湿孔壁的目的。其难点在于处理液的难合成、毒性以及配置保存期较短。等离子清洗过程为一种干法制程很好的解决了这些难题。

等离子清洗去除干膜残留物

等离子用于去除印制电路板制作一些工序中的非金属残留物，是一种很好的选择。在图形转移工序中，贴压干膜后的印制电路板经曝光之后，需要进行显影蚀刻处理，去掉不需要干膜保护的铜区域，其过程为利用显影液溶解掉未被曝光的干膜，以便在随后的蚀刻过程蚀刻掉该未曝光干膜覆盖的铜面。此显影过程中，往往由于显影缸喷管压力不均等原因使得局部未曝光的干膜未能被全部溶解掉，形成残留物。这种情况在精细线路的制作中更容易发生，最终在随后的蚀刻后造成短路。采用等离子处理可以很好的将干膜残留物去掉。

等离子清洗过程为一种干制程，相对于湿制程来说，其具有诸多的优势，这是等离子体本身特征所决定了。由高压电离出的总体显电中性的等离子体具有很高的活性，能够与材料表面原子进行不断的反应，使表面物质不断激发成气态物质挥发出去，达到清洗的目的。其在印制电路板制造过程中具有很好的实用性，是一种干净、环保、高效的清洗方法。