等离子清洗、激光清洗、紫外线/臭氧清洁对比

Apr. 22, 2024

干法清洗方式近年来得到了快速发展，并且该方法不需要液体参与，可以精确控制清洗位置，并且清洗后不会在清洗表面引入杂质，可以反复对表面清洗。干法清洗广泛应用在各种表面清洗，主要包括：激光清洗、紫外线/臭氧清洁以及等离子清洗等。

（1）激光清洗

激光清洗具有非接触、环保的特点，是一种新型的清洗技术。激光清洗是借助激光辐射下的蒸发、振动、烧蚀和冲击波的综合作用，去除表面的污染物，但会损坏基材。

（2）紫外线/臭氧清洗

紫外线/臭氧清洗技术可以使用产生的强氧化性粒子去除表面的碳氢化合物，在紫外线与臭氧作用下，表面的碳氢化合物被氧化为挥发性气体，实现了表面有机污染物的无损去除。

（3）等离子清洗

等离子体清洗过程主要借助产生的活性粒子与表面有机污染物进行反应，在等离子体清洗过程中涉及到活性粒子的物理碰撞及化学反应两个过程。物理碰撞反应是借助具有能量的活性粒子与吸附的污染物碰撞，当能量大于分子间吸附力时，碳氢化合物脱离基体表面。等离子体清洗过程中的化学反应涉及到：活性粒子可以打断吸附的碳氢化合物的键，生成一些小分子，脱离表面。等离子体也会加热基体，降低分子间分子吸附作用。等离子体清洗技术能够实现基体表面污染物的无损去除，具有良好的应用前景。

上述的清洗方式的优缺点如表1-1所示。

激光清洗、紫外线/臭氧清洁以及等离子清洗方式比较

类型	特点	优点	缺点
激光清洗	污染物吸收激光能量后直接汽化挥发	清洗效率高；无液体；	远程操控表面污染物吸收能量产生等离子；形成冲击波，影响膜层
紫外线/臭氧清洗	主要是利用臭氧强氧化性来清洗残留的有机物和有机溶剂	无残留；无二次污染；处理时间快	微粒与无机污染物去除效果差
等离子清洗	利用高能粒子和活性粒子的轰击或活化作用去除污染物	无化学试剂；操作简单；清洗装置结构复杂	需要工艺气体