等离子清洗机作为一种干法清洗设备，具有污染物去除效率高、清洗表面无损伤以及实现复杂装置中零件的在位清洗等优势，是未来非常有前景的清洗技术。那么等离子清洗机的工作原理是什么呢？下面就为大家介绍一番。

为满足产业界的需求，人们根据电子加热方式的不同，研制出了诸多不同类型的等离子体源。这些等离子体源主要包括通过静电加热产生等离子体的容性耦合等离子体源(capacitively coupled plasma，CCP)、通过感应电场加热的感应耦合等离子体源(inductively coupled plasma，ICP)、通过螺旋波线圈加热的螺旋波等离子体源(helicon wave plasma，HWP)、通过微波加热产生等离子体的ECR等离子体源(electron cyclotron resonance，ECR)。根据不同的等离子体源，从而产生了不同的等离子清洗设备，如射频等离子清洗机，微波等离子清洗机等。

不同等离子清洗机的工作原理都不太一样，但是都可以归结为是通过对气体放电从而产生等离子体的装置。下面为大家讲讲市面上最常见的真空等离子清洗机工作原理。

等离子清洗机的工作原理如下：

市面上最常见的等离子清洗机大都采用容性耦合等离子体发生方式CCP，CCP由真空腔室和两个正对放置的电极构成，类似于平行板电容器，因此CCP也是结构最为简单的低温等离子体源。通常情况下，CCP的一个电极接地，称为接地极；另一电极接射频电源，称为电源极。射频频率一般为兆赫兹量级。在实际放电中，射频电源与放电腔室之间会连接一个匹配电路，用于保护电源和调节功率匹配，如图1.1所示，这便是大部分真空等离子清洗机的工作原理图。

等离子清洗机工作原理图

真空等离子清洗机主要由以下几个部分组成：反应腔室、控制系统、射频电源及匹配电路以及真空系统组成，其结构如图1.2所示。

等离子清洗机工作原理是通过真空泵将真空腔体抽至10Pa左右的真空度，然后向真空腔体中通入氩气或者氧气等反应气体，当真空度约为10~100Pa时开启射频电源，调节射频匹配电源，起辉形成等离子体。在真空状态下，因为气压较小，分子间的间距变大，从而使得分子间的作用力变小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、氩气等工艺气体震荡成具有高能量或者高反应活性的离子，与有机污染物或者微颗粒反应、碰撞形成挥发性物质，挥发性物质由工作气流从真空泵排出去从而达到清洗的目的。

以上就是关于容性耦合（CCP）等离子清洗机的工作原理是什么的简单介绍，等离子清洗通过复杂的物理和化学过程来去除材料表面的污染物，采用这种方法能够提升材料的粘附性与湿润性，且等离子体清洗技术无需任何化学试剂，具有成本低，对环境和人员的影响小等优势。