等离子清洗是用等离子体通过化学或物理作用对工件表面进行分子水平处理，去除沾污，改善表面性能的工艺过程。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺。根据选择的工艺气体不同，分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。目前有四种激励电源频率，分别是直流、低频40KHz、射频13.56MHz及微波2.45GHz。

随着工艺技术水平的不断提高，集成电路的规模和复杂程度越来越高，生产中采用的新材料、新结构、新器件不断出现，传统等离子清洗技术在去除表面污染物的同时却不能有效避免静电损伤。在日常工作中，个人身体所带的静电势在1~2kV的区间内，人体一般无法察觉到这个电压范围内的静电，但敏感的集成电路却无法承受这个水平的静电电压而受到损伤，并且90%的静电损伤是无法检测，只有在使用时才会被发现，这就严重影响集成电路的成品率和可靠性，这对于敏感电路来说却是不允许的，基于这个工艺要求，在清洗工艺中去除污染物的同时避免静电损伤就显得尤为重要。

微波等离子清洗机与低频、射频等离子清洗机相比的优势

微波频率相对于其他频率有两个决定性优势，其一是离子浓度最高,在微波等离子里的反应微粒数量要远远大于在射频等离子里的反应等离子数量，这会使反应速度更快，反应时间更短。其二，等离子的一个自然特性是可以在直接暴露于等离子的基材上生成一种自偏压。这种自偏压要取决于等离子的激励频率,比如频率为2.45GHz的微波一般仅要求5-15伏,而在同样的情况下,射频等离子自偏压却要求100伏。因此,基材将要承受高能量离子冲击带来的损害,特别是半导体。等离子清洗机激发频率和自偏压的关系如图1所示。

图1 等离子清洗机激发频率和自偏压的关系

微波等离子清洗机与低频或射频等离子清洗机产生的等离子体相比，它的优势特点是没有正负电极，自偏压很小，不会产生放电污染，有效防止静电损伤；等离子密度高，生产效率高；离子运动冲击小，不会产生UV（紫外线）辐射，尤其适用于一些敏感电路的制程清洗。此外，微波等离子清洗机无极放电特征很好地避免了放电区域的电极刻蚀或副产物沉积等问题，改善微波等离子清洗机的工作周期及使用寿命。