等离子表面处理机是一种应用低温等离子体来进行材料表面活化、清洁、改性的设备，工艺参数有很多，主要包括射频频率与功率、腔体真空度、反应时间、腔体温度、工艺气体种类及流量等。了解各个工艺参数在等离子表面处理过程中的作用，对如何进行等离子表面处理机参数设置有很大帮助。下面就分别讲述各个参数对等离子表面处理效果的影响。

射频频率

作为等离子激发的能量源，激励源的频率一般选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz。激励源的频率影响工艺气体的电离程度，气体形成等离子体的程度会随着射频频率的增加而增大，但是过高的频率，会导致电子振幅缩短，当振幅比电子自由程还短时，电子与气体分子碰撞机率也会大大降低，影响最终电离率。激励源的功率决定了气体形成离子态的能量大小，功率越大能够激发越多的气体形成离子态，从而提高腔体内活性离子的密度，提高处理速率；同时随着功率增大，腔体内温度也能得到相应的提升。

真空度

腔体内的真空度会影响工艺气体的电离程度，真空度越高，电子运动的平均自由程越大，能量也就越大，越有利于电离。但是过高的真空度反而会造成气体离子密度降低，从而使灰化效果变差。

腔体温度

腔体温度同样能够影响处理效果，温度越高，反应腔内气体离子越活跃，化学反应越剧烈。但是过高的腔体温度，一方面会使均匀性变差；另一方面可能对其基底本身造成损伤，影响处理后的成品率。

处理时间

等离子处理时间长短决定了处理产品效果的好坏，适当的处理时间可以使得工件表面洁净度增加，有利于下道工序进行，且不会对产品构成损坏。射频时间增长，反应仓内部总能量增加，对应伴随着温度升高，对不耐高温材质形成的工件可能会出，但是过长的时间会同样可能对某些敏感材料造成损伤。

工艺气体及流量

工艺气体如氧气、氩气、四氟化碳等，其流量的多少直接影响电离后能够生成的等离子体数量的多少。氧气作为清洗化学反应中最主要的介质气体，流量越大，腔体内氧气离子密度也就越高，与材料接触机会也增大，清洗反应更快；但氧气流量太大，腔体内氧气离子密度太高，离子的复合程度也变高，整个腔体的电离强度也随着电子运动的自由程缩短而降低。

以上就是关于等离子表面处理机工艺参数的简单介绍，在等离子表面处理流程中，不同的工艺参数设置会对等离子表面处理机的处理效果产生不同的影响。射频功率、清洗时间、基础真空压力等参数的设置均可根据工艺试验结果进行实时调节，且随着等离子处理工艺参数的改进，处理效果会进一步加强。如果还是不会设置参数，可以找我们，我们拥有丰富的经验，可以为您提供关于等离子表面处理机参数设置方面的建议。