射频等离子体去胶机是一种专门用于去除材料表面胶层或高分子物质的设备，其利用高频电场产生的等离子体进行化学反应，将各种高分子物质转化为易于处理的低分子物质，从而实现去胶的目的，这个工艺通常又被称为灰化工艺，射频等离子体去胶技术是一种高效、环保的去胶方法，它无需使用化学溶剂和水,可以有效避免污染和废弃物处理难题。射频等离子体去胶机通常包含射频电源、反应腔体、气体控制系统和真空系统等部分，射频电源用于产生高频电场，反应腔体是等离子体产生的场所，气体控制系统用于控制反应气体的种类和流量，真空系统则用于维持腔体内的低压环境，促进等离子体的形成和化学反应的进行，设备真空腔体里面内置若干电极板，可以用于小批量去胶，提高生产效率。

采用气体离子化的方式来轰击去除光刻胶，保证了器件的完整性。射频等离子体去胶机适用于玻璃、金属种子层、硅片、压电陶瓷等各类衬底，通过等离子轰击不仅可以去除表面的残胶，还能活化衬底，改善其表面的亲水性能。