晶圆、硅片、外延片 实验室等离子去胶机NE-PE13F
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产品简介

NE-PE13F是一款高性价比的干法去胶设备,可用于尺寸8英寸及以下样品表面的活化和清洁处理。等离子去胶的工作原理是将覆有光刻胶的外延片/晶圆放置于真空反应系统中,通入少量氧气,利用电压放电,把氧气(O2)电离成激发态的氧原子(O),然后氧原子和抗蚀剂中的C和H快速反应,生成CO、CO2和H2O等挥发性气体,用真空泵抽走,以达到去胶的目的。等离子去胶不仅操作简单、去胶效率高、去胶后晶圆表面干净光洁而且无划痕、成本低、环保,有利于确保产品的质量。

产品参数

型号NE-PE13F
功率0-300W可调
频率13.56 MHz自动阻抗匹配
腔体尺寸240(L)*280(D)*200(H)mm
腔体有效处理面积230(L)×205(D)mm
腔体容积13.5L
处理产品尺寸可处理8寸晶圆,向下兼容6寸,4寸晶圆
腔体材质316 镜面不锈钢
极限真空度1PA
气路数量3路耐腐蚀,支持氧气,氩气,氮气,氢气等
外形尺寸600mm(L)×550mm(W) ×580 mm(H)
电源供应220V


产品应用

01

硅片清洗

硅片清洗

02

晶圆去胶

晶圆去胶

03

有机物清洗

有机物清洗

04

亲水性提升

亲水性提升

05

表面微刻蚀

表面微刻蚀

06

表面活化改性

表面活化改性

应用案例

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